原子层沉积制备纳米TiO2薄膜研究进展
原子层沉积技术(ALD)可制备出平滑、均匀可控的高质量薄膜,较传统制备方法而言,具有高度可控性和重现性,成为纳米二氧化钛(TiO2)薄膜制备的首要选择.从沉积温度、等离子体的增强作用、沉积载体、掺杂及应用等方面综述了ALD法制备纳米TiO2薄膜的相关研究进展.
原子层沉积(ALD)、TiO2薄膜、掺杂
44
2016-11-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
28-29,32
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原子层沉积(ALD)、TiO2薄膜、掺杂
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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