单组分化学增幅型光致抗蚀剂LB膜的制备及光刻应用

摘要：

合成了光致产酸剂N-对甲苯磺酸酯马来酰亚胺(TsOMI),及其与十二烷基甲基丙烯酰胺(DDMA)、对叔丁氧基苯乙烯碳酸酯(t-BOCSt)聚合得到三元共聚物.研究了该聚合物分子在气/液界面的成膜性,LB膜的光敏性和光刻性能.结果表明:该聚合物分子可在不同材质的基板上制备规整均匀的LB膜,在250nm紫外光照下,LB膜表现出化学增幅作用.以40层该聚合物LB膜为抗蚀层,经紫外曝光20min、显影10s后可得到分辨率为0.75μm(该掩膜所能达到的最大分辨率)的正型LB膜图形,进一步刻蚀得到分辨率为0.75μm的金膜图形.

关键词：光致产酸剂、化学增幅、LB膜技术、光刻

所属期刊栏目：43

分类号：TQ433.432;TQ577.35;TQ333.93

资助基金：国家自然科学基金;河南省基础与前沿技术研究计划;周口师范学院青年科研基金

在线出版日期：2015-10-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：228-230