后处理方法对纳米介孔SiO2形貌结构的影响

摘要：

采用十四烷基三甲基溴化铵作为表面活性剂,四乙氧基硅烷(TEOS)为无机硅源,在碱性条件下合成纳米介孔SiO2 (MSN),并采用回流和煅烧两种不同的后处理方法去除表面活性剂,探讨了不同的后处理方法对纳米介孔SiO2结构形貌的的影响.通过红外、小角X射线衍射、低温N2吸附与脱附以及透射电镜检测.实验表明:回流和煅烧都能得到粒径在100nm左右的圆球状的介孔SiO2,煅烧得到的纳米介孔SiO2的BET比表面积、BJH孔径和孔容均大于回流法得到的样品,且通过小角XRD显示,煅烧得到的材料具有一定的长程有序性,而回流法得到的材料则是完全无序的,并通过TEM证实,煅烧比回流得到的样品的孔结构清晰,有序度高.

关键词：结构形貌、回流法、煅烧法、纳米介孔二氧化硅

所属期刊栏目：42

分类号：TB383;O652.6;TQ423

资助基金：贵州省工业科技攻关计划;贵阳市科技计划

在线出版日期：2015-06-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：138-140