一种新型高比电容多孔氧化镍纳米片的制备

摘要：

通过简单的两步方法合成了一种新型结构的多孔氧化镍(NiO)纳米片,分别利用X-射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨/投射电子显微镜(HR/TEM)对其晶体结构、形貌进行了表征,结果发现制备的NiO纳米片尺寸大约500nm,孔径大约30nm.此外,还对多孔NiO纳米片进行了电容性能测试,结果显示其比电容达到了326 F/g,表明该多孔NiO纳米片具有较高的电容性能和潜在的应用价值.

关键词：多孔、氧化镍、纳米片、比电容

所属期刊栏目：42

资助基金：安徽省高等学校省级教学质量与教学改革工程项目

在线出版日期：2015-06-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：55-57