碳纤维毡表面磁控溅射纳米铜薄膜的工艺优化

摘要：

以碳纤维毡为基材,优化了采用磁控溅射技术在其表面沉积纳米铜薄膜的工艺参数.运用正交试验分析方法,选取沉积时间、溅射功率和工作压强3个参数为因素,分析了各因素对碳纤维毡的电磁屏蔽效能和导电性能的影响.实验表明:磁控溅射铜薄膜后,碳纤维毡的电磁屏蔽效能提高了116.25％,导电性能提高了45.81％.;碳纤维毡表面溅射沉积铜薄膜的最佳工艺方案为:沉积时间50min,工作压强0.4Pa,溅射功率80W.

关键词：碳纤维毡、纳米铜薄膜、磁控溅射、工艺优化、电磁屏蔽

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资助基金：教育部长江学者和创新团队发展计划IRT1135

在线出版日期：2015-06-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：72-74