10.3969/j.issn.1006-3536.2009.06.009
多孔性聚酰亚胺纳米粒子的制备
介绍了用”再沉淀法”并经亚胺化成功制成PI(BPDA-PDA)多孔性粒子,粒径为几百nm;在此同时,加入与PAA(PI的先驱体)有较好相容性聚丙烯酸PAS为多孔源(porogen),而在其粒子表面生成较深的、较高空穴率的空穴,在20~100nm之间.这种多孔性PI纳米粒子可作为下一代低k值PI膜材料候选者之一.
聚酰亚胺、多孔纳米粒子、制备
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O62;TQ2
2009-07-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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