10.3969/j.issn.1006-3536.2006.05.005
低共熔化合物辅助化学沉淀法制备NiO纳米晶体
以Ni(NO3)2和NH4HCO3为原料,用化学沉淀法制备出的前驱体,经加入低共熔混合物煅烧后,得到粒度分布均匀、分散性较好的立方相纯NiO纳米晶体,平均粒度约为25nm.考察了低共熔混合物的加入对NiO粒度和形貌的影响情况,并初步探讨了低共熔混合物在纳米NiO制备过程中的作用机理.
沉淀法、纳米NiO、低共熔混合物
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TB3(工程材料学)
国家科技攻关项目04DZ05803
2006-06-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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