电沉积Ni80Fe20/Cu纳米多层膜及其巨磁电阻效应

摘要：

采用单槽控电位双脉冲技术在n-Si(111)晶面上制备了[Ni80Fe20/Cu]n多层膜,用SEM观测了多层膜的断面形貌,利用X射线衍射(XRD)表征了多层膜的超晶格结构.采用四探针法研究了多层膜的巨磁电阻(GMR)性能,结果表明,多层膜的GMR值随着Cu层厚度的变化发生周期性振荡,随着NiFe层厚度的增加先增大后减小;当样品结构为[NiFe(1.6 nm)/Cu(2.6 nm)]80时,GMR值可达6.4%;多层膜的最低饱和磁场仅为750Oe.磁滞回线测试结果表明,反铁磁耦合多层膜具有较小的矩形比,更适宜作为磁头材料.

关键词：电沉积、多层膜、巨磁电阻、超晶格、NiFe/Cu

所属期刊栏目：59

分类号：O646(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家自然科学基金50071039;50271046;高等学校博士学科点专项科研项目20030056034

在线出版日期：2008-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：503-507