10.3321/j.issn:1000-6613.2008.01.006
化学机械抛光技术研究进展
通过回顾化学机械抛光技术的发展历史,概述了化学机械抛光作用机制与实际应用情况,着重阐述了几种重要抛光浆料(如CeO2、SiO2、Al2O3抛光浆料)的优缺点、抛光机理及其国内外新近制备方法,进一步展望了化学机械抛光技术的发展前景与新型抛光浆料的开发方向.
化学机械抛光、抛光浆料、抛光机理
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TB383(工程材料学)
科技部国际科技合作项目2005DFBA028;中南大学校科研和教改项目LA06030
2008-03-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
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