钯膜制备新技术
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10.3321/j.issn:1000-6613.2002.05.012

钯膜制备新技术

引用
介绍了钯膜的制备方法及在载体上制备超薄钯膜的改进技术.由无电子电镀过程制备的钯膜对氢渗透速率高,对氢有良好的选择性.由金属有机气相沉积法(MOCVD)在载体孔内沉积钯膜有助于防止氢的脆化作用.利用渗透压的新技术可控制膜的微观结构和孔隙率.将多孔不锈钢作为载体时,利用不同的技术能克服氢的脆化作用,减少钯膜厚度以及防止钯-银层与不锈钢间金属原子的相互扩散.由光催化沉积可在半导体载体上制备超薄钯膜.

钯膜、制备、膜分离、氢渗透率

21

TQ138

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

342-344,359

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11-1954/TQ

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