10.3969/j.issn.1003-5060.2016.03.007
La0.56 Li0.33 TiO3薄膜的制备及退火对其光电性能的影响
文章采用射频磁控溅射法在氧化铟锡(indium-tin oxide ,ITO )玻璃衬底上制备了钛酸镧锂(lithium lanthanum titanate ,LLTO)薄膜,并在氩气中经100、200、300℃退火2 h。对薄膜的形貌、结构、离子电导率和光电性能进行测试。结果表明,室温下制备的LLTO薄膜为非晶态,随着退火温度的升高,薄膜的离子电导率和可见光透过率均随之升高,经300℃氩气气氛退火后,薄膜的离子电导率为5.0×10-6 S/cm ,可见光平均透过率为89%。
钛酸镧锂薄膜、射频磁控溅射、退火、离子电导率、光电性能
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TB43(工业通用技术与设备)
安徽省高校自然科学基金资助项目KJ2009A091;KJ2012A228;中国科学院战略性先导科技专项资助项目XDA03040000
2016-05-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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