晶态WO3电致变色薄膜和器件的制备及性能研究

摘要：

文章用射频磁控反应溅射法，以钨靶为溅射靶材，在玻璃和ITO衬底上分别制备了WO3薄膜，氧气和氩气的流量比值为5∶25，工作气压为1.5 Pa ，所有样品均进行了400℃保温1 h的退火。通过改变溅射功率，研究了功率对WO3薄膜的相组成、表面形貌、可见光透过率的影响，最终得到溅射功率为100～70 W的WO3晶态薄膜的电致变色性能最好。

关键词：晶态WO3 薄膜、射频磁控反应溅射、透过率、电致变色

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：国家“973”计划资助项目2008CB717802；安徽省自然科学基金资助项目090414182;安徽省高等学校自然科学研究基金资助项目KJ2009A091；KJ2012A228

在线出版日期：2014-06-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：534-537