碳化硅薄膜的光学特性研究

摘要：

采用螺旋波等离子体增强化学气相沉积(HW-PECVD)技术制备了纳米晶碳化硅(nc-SiC)薄膜,利用傅立叶红外吸收谱(FTIR)、X射线衍射谱(XRD)、紫外-可见透射光谱(UV-Vis)和光致发光谱(PL)对薄膜的结构、光学带隙、发光特性等进行了测量和分析.结果表明,所沉积薄膜主要以Si-C键合结构存在,薄膜中包含有立方结构的3C-SiC晶粒,光学带隙2.59 eV,室温下薄膜表现出强的可见蓝色光致发光,发光峰位随氙灯激发波长的增加呈现红移现象,并将此发光归因于量子限制效应作用的结果.

关键词：SiC薄膜、薄膜结构、光学带隙、光致发光

所属期刊栏目：27

分类号：O484.4+1(固体物理学)

资助基金：河北省自然科学基金503129

在线出版日期：2007-04-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：24-27