Ni80Fe20镀层对Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9非晶条带磁阻抗效应的影响

摘要：

采用磁控溅射镀膜工艺,在Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9非晶条带的光滑面上溅射了130～650 nm厚的Ni80Fe20薄膜,制备了一系列Ni80Fe20/Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9复合结构样品.研究了镀层厚度对材料的镀层形貌、巨磁阻抗效应(Giant Magneto-Impedance,GMI)和磁滞回线的影响.结果发现,镀层厚度为260 nm厚时,样品的表面形貌最平整致密,最大磁阻抗比提高到33.0％.在玻璃基片上溅射了相同厚度的系列Ni80Fe20薄膜,其磁滞回线结果发现薄膜的各向异性方向随着厚度的增加由平行表面转变成垂直于表面.正是Ni80Fe20镀层各向异性的方向改变,影响了镀层与条带间的相互作用,进而影响复合结构样品的磁阻抗效应.

关键词：相互作用、磁阻抗效应、复合结构

分类号：O482.5(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金51302085,11574084,51572086

在线出版日期：2017-05-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：71-79