pH和取代基团对席夫碱电化学氧化还原的影响

摘要：

合成了5种不同结构的席夫碱(N-苯基苯甲亚胺、具有-OH基团的N-苯基-2-羟基苯甲亚胺和N-(2-羟基)苯基苯甲亚胺、具有-NO2基团的N-苯基-4-硝基苯甲亚胺和N-(4-硝基)苯基苯甲亚胺).利用循环伏安法对5种席夫碱水溶液在玻碳电极上的电化学氧化还原行为进行了研究.同时考察了pH对席夫碱-CH=N-基团的电化学氧化还原反应的影响.结果表明:这5种席夫碱的-CH=N基团都可以在玻碳电极上被还原,且是一个电化学上不可逆的过程;席夫碱结构上具有不同的取代基团(-OH和-NO2)和同一取代基团在席夫碱不同的位置上(与碳端相连苯环、与氮端相连苯环)对-CH=N-基团的电化学还原都有较大的影响;而在不同pH缓冲溶液中,H+浓度对5种席夫碱的-CH=N-基团还原也有一定的影响;进而推断出席夫碱在玻碳电极上的电化学还原机理是-CH=N-基团上先在N原子上先得到一个电子,后在C原子上得到一个电子,再得到两个H+的过程.

关键词：席夫碱、玻碳电极、循环伏安、氧化还原

分类号：O646.54(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：2008年鞍山市科技计划项目20081102

在线出版日期：2011-08-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：70-76