10.3969/j.issn.1000-5641.2008.05.015
溅射工艺对NiFe/Cu复合丝结构和性能的影响
利用射频磁控溅射法分别采用连续溅射和间歇溅射工艺制备了Ni<,80>Fe<,20>/Cu复合结构丝.通过扫描电镜和x射线衍射等手段研究了溅射模式对复合丝微观结构的影响.结果表明:间歇溅射使镀层之间形成明显的界面,镀层结晶度增加,晶粒较大.利用巨磁阻抗效应和磁滞回线手段分析了样品的磁性能,发现实验中溅射的磁性层具有良好的软磁性能,复合丝呈现出较大的巨磁阻抗效应.当采用间歇溅射工艺时,由于复合丝的镀层中存在明显界面,内、外磁层的磁化行为不同,出现两个各向异性场.该样品经退火后,释放了一部分内部应力,软磁性能提高,阻抗效应增强,且内、外磁层磁性能趋于一致.
复合丝、晶态结构、巨磁阻抗效应、各向异性场
O482.4(固体物理学)
国家自然科学基金20575022;上海市科委基金0652nm036,0752nm004
2008-12-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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