Ni80F20复合结构多层膜的巨磁阻抗效应研究

摘要：

用磁控溅射法在载玻片上制备了(Ni80Fe20/SiO2)n/Cu/(SiO2/Ni80Fe20)n复合结构多层膜,并对其巨磁阻抗效应进行了研究.研究结果表明,采用多组双层结构(n＞1)后,样品的巨磁阻抗效应明显增大;当n=3时,观测到最大的纵向巨磁阻抗(LMI)效应为10.81%,最大的横向巨磁阻抗(TMI)效应为17.08%.当n=4,5时,巨磁阻抗效应比n=3时略有减小.由XRD谱和磁滞回线等,研究了双层结构(Ni80Fe20/SiO2)循环次数n引起的样品材料晶体结构和磁性能等变化,以及对样品巨磁阻抗效应的影响.

关键词：X射线衍射谱、磁滞回线、巨磁阻抗效应、Ni80Fe20复合结构多层膜

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：上海市科委资助项目0452nm055;04QMX1422

在线出版日期：2007-04-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：127-134