非晶FeCuNbSiB多层膜的巨磁阻抗效应

摘要：

研究在250℃退火温度下非晶FeCuNbSiB薄膜的巨磁阻抗效应.X-ray谱和Mossbauer谱显示样品为非晶状态.导电层的厚度为2 μm,磁性层的厚度为1 μm.三明治结构的最大阻抗效应为20%.为了提高巨磁阻抗效应,在两磁性层之间加入了绝缘层SiO2,在250℃退火温度下最大阻抗效应为62%.随着驱动电流频率的增大,磁阻抗效应曲线由随磁场的单调下降变为出现峰的结构.

关键词：巨磁阻抗效应、多层膜、磁控溅射、FeCuNbSiB、绝缘层

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：上海市科委资助项目0252nm004,0352nm060

在线出版日期：2005-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：68-72,143