基于文献计量的全球光刻机领域发展态势研究

摘要：

光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是大规模半导体制造的核心设备,它的精度决定了芯片制程的精度,被誉为半导体工业皇冠上的明珠.全球高精度半导体用光刻机主要来自荷兰的ASML以及日本的Nikon和Canon这三家公司,而最顶级的EUV光刻机仅有ASML公司能够生产,最高能支持2nm芯片的制造,而我国光刻机领域最为领先的上海微电子装备公司目前仅能生产90nm工艺制程的光刻机.

关键词：光刻机、发展态势、研究现状、文献计量

分类号：G353.1;TN305.7(情报学、情报工作)

在线出版日期：2023-01-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：60-62