常压质谱中的化学干扰来源研究

摘要：

重点对常压质谱(API-MS)自身产生的背景噪声进行分析,并对其来源进行解析.通过对不同厂家生产的API-MS进行测试.结果表明,其质谱图背景噪声中的碎片离子主要来自邻苯二甲酸二乙酯(DEP)、邻苯二甲酸二丁酯(DBP)、邻苯二甲酸苄基丁基酯(BBP)和邻苯二甲酸二异辛酯(DEHP)等酞酸酯类化合物与十甲基环五硅氧烷(D5)和十二甲基环六硅氧烷(D6)等硅酮类化合物,这些化合物很可能来自离子源中聚合材料制成的部件(如O型橡皮圈等).这些仪器自身产生的背景噪声可以影响样品中如酞酸酯类和缩氨酸类等化合物的分析检出,因此需要在分析过程充分考虑到此类背景噪声的影响,并采取相应措施降低和消除背景干扰.

关键词：常压质谱、离子源、背景干扰、酞酸酯类化合物

所属期刊栏目：35

分类号：O657.63(分析化学)

资助基金：国家自然科学基金21165002;江西省自然科学基金20114BAB203016

在线出版日期：2012-12-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：291-296