等离子喷射CVD金刚石膜制备过程中的断弧保护

摘要：

通过对等离子体喷射CVD金刚石设备的控制电路的改进,增加了沉积过程中在断弧情况下对已经沉积的膜的保护.该部分是在不影响开机点火的前提下,从主电流(电弧电流)取信号来控制冷却系统,使已生成的金刚石膜缓慢地冷却到室温,减小金刚石膜与衬底因温度瞬间下降而造成的相互作用力,金刚石内应力的释放相对减少.宏观裂纹明显减少,提高膜的完整性和产品的利用率和出材率.

关键词：控制电路、应力、继电器、效率

所属期刊栏目：25

分类号：TB383(工程材料学)

在线出版日期：2008-06-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：42-45