10.3969/j.issn.1001-9383.2008.01.009
温度监控装置在CVD金刚石膜沉积设备中的应用
介绍了一种温度监控装置,并结合其在等离子体喷射CVD金刚石膜沉积设备中的使用情况,论述了该温度监控装置的工作原理,给出了监控的驱动电路,并对该电路进行了分析,最后在沉积结果中选取了两种典型的金刚石膜晶粒形貌做了比较,经过多次沉积实验证明,本温度监控装置的引入大大降低了值班人员的劳动强度,明显改善了金刚石膜的质量和完整性,提高了产品的出材率.
温度监控、红外测温仪、遥控、信号发射器、信号接收器
25
TB383(工程材料学)
2008-06-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
38-41