起垄内嵌式基质栽培垄规格对根区温度和甜椒生长的影响

摘要：

为了明确起垄内嵌式基质栽培不同垄规格的温热性能,在日光温室中进行大田试验,以土垄(T0)为对照,设置了窄垄(T1)、窄垄黑膜(T2)、矮垄(T3)、垫高垄(T4)和标准垄(T5)5种处理,探究栽培垄高度、宽度和覆膜类型对根区温热以及甜椒生长的影响.试验结果表明:黑色地膜的增温效果较差,昼夜平均温度较白色地膜低1.0℃左右;高度对根区温度变化的影响表现为:白天高温时段高度越高温度越高,夜间则相反;宽度对根区温度变化的影响表现为:白天时宽度越宽根区温度越低,夜间相反.虽然各处理根区温度日变化存在一定的差异,但昼夜平均温度均在17.5～19.0℃,彼此间温差在1.0℃左右.栽培垄的高度、宽度和覆膜类型对甜椒的株高、茎粗和SPAD值影响差异不显著,但与对照组相比,试验组各处理的产量均有所提高,并以T3矮垄处理产量最高为6.1 kg/m2,比T0产量提高了90.6％.综上所述,在相同的滴灌水平下,垄规格的改变对根区温度影响较弱,与对照相比,以T3处理对甜椒产量提升效果最为显著,生产性能最佳,故在日光温室生产中矮垄具有更好的应用前景.

关键词：日光温室、起垄内嵌式、根区温度、垄规格、甜椒

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分类号：S625.4(设施园艺（保护地栽培）)

资助基金：“十三五”国家重点研发计划项目2016YFD0801001;中央级公益性科研院所基本科研业务费专项资金项目

在线出版日期：2019-02-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：52-57