10.3969/j.issn.1008-1542.2003.04.005
二氧化硅镀膜的特性研究及其对内皮细胞活性的影响
研究了沉积在玻璃基体上二氧化硅薄膜表面改性对内皮细胞生长的影响.二氧化硅薄膜的制备采用了离子束辅助沉积法,薄膜的厚度为2 000 左右,薄膜成分利用X射线光电子谱仪进行分析,分析结果表明薄膜成分为纯二氧化硅.在二氧化硅薄膜上进行牛主动脉内皮细胞培养,观察细胞突起生长情况,并用MTT方法检验细胞活力.结果发现对照组细胞突起生长明显,而在二氧化硅薄膜作用下,样品组细胞突起生长不那么明显,OD值由0.574下降到了0.465(p<0.001),说明氧化硅薄膜对内皮细胞生长有明显的抑制作用.
离子束辅助沉积、二氧化硅薄膜、冠状动脉内支架、细胞培养
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Q6-3
2004-02-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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19-23,66