莠去津分子印迹聚合物的合成及其在低检出限离子选择性电极中的应用研究

摘要：

以莠去津为模板分子，采用沉淀聚合法制备了莠去津分子印迹聚合物，并将其作为离子载体制备了低检出限莠去津分子印迹聚合物膜离子选择性电极。优化的电极膜组分（质量分数）为：PVC 30.1％、o-NPOE 60.8％、NaTF-PB 1.5％、MIP 7.6％，筛选适宜的内充液为0.01 mol·L-1 NaCl 溶液，制得的电极在1.0×10-7～1.0×10-3 mol·L-1的浓度范围内对莠去津离子呈能斯特响应，响应斜率为53.9 mV·decade-1，检出限为1.9×10-8 mol·L-1。该电极具有良好的选择性和稳定性，已成功应用于自来水中莠去津的测定。

关键词：分子印迹聚合物、离子选择性电极、低检出限、莠去津、自来水

分类号：O631;TP212.9(高分子化学（高聚物）)

资助基金：中国科学院人才专项项目2060299

在线出版日期：2014-07-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：45-49,54