磁头结构表面刻蚀深度对磁头飞行姿态影响的实验研究

摘要：

随着磁盘容量的不断增大, 测试技术也不断得到发展. 本论文中, 工作在纳米级条件下的磁头飞行姿态由动态飞高测试仪获得. 通过实验测试方法分析了 3 层 2 台阶负压型磁头表面结构的刻蚀深度对磁头飞行姿态的影响. 实验测试结果表明刻蚀深度的变化对磁头飞行姿态有明显的影响:随着次景层深度的增加, 最小飞行高度和俯仰角都有明显增大趋势;最小飞行高度随着基层深度的增加基本呈增大趋势, 而俯仰角呈下降趋势;侧翻角对次景层和基层深度变化不敏感. 实际的磁头结构设计中可实验测试结果和优化组合方法选择最佳结构表面刻蚀深度来降低磁头的飞行高度, 从而达到增大磁盘存储容量的目的.

关键词：纳米技术、磁头/磁盘、实验测试

所属期刊栏目：24

分类号：TH117.2

资助基金：国家重点基础研究发展计划资助项目2003CB716205

在线出版日期：2010-05-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：84-88