激光直接写入系统线宽分析

摘要：

在激光直接写入系统中,由于抗蚀剂内的曝光量分布和光强分布之间有差别,所以在分析线条的形状时,如果用光强分布代替曝光量分布会产生误差.本文给出了用激光直接写入技术制作二元光学元件时,抗蚀剂内曝光量的计算公式.分析了抗蚀剂内曝光区域各点的曝光量分布,它们在显影后所对应的侧壁角和线条宽度以及写入激光束运动速度变化对线条侧壁角和宽度的影响.实验结果和理论分析相吻合.

关键词：二元光学、激光直写、线宽分析

所属期刊栏目：16

分类号：TN2(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2005-12-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1383-1388