沉积氧压对RuVO2合金薄膜结构及MIT特性的影响研究

摘要：

本工作采用脉冲激光沉积法,以c-Al2 O3为衬底,金属钌(Ru)镶嵌金属钒(V)圆片作为靶材,高纯氧气为反应气体,在不同沉积氧压下制备出一系列RuVO2合金薄膜.采用XRD、XPS、紫外-可见-近红外光谱仪、四探针测试仪等表征了薄膜的结构、成分及光电性能.实验结果表明:在不同沉积氧压下,薄膜均沿(010)晶面高度取向生长,薄膜的摇摆曲线半高宽在0.050°～0.091°之间,薄膜具有良好的结晶质量.低氧压(1.5 Pa)下制备的RuVO2薄膜成分严重偏离化学计量比而含有大量O空位缺陷.随着沉积氧压增大,薄膜化学成分接近化学计量比2:1;在大于2.4 Pa氧压条件下制备的薄膜都表现出显著的MIT特性,薄膜相变温度在50～55℃之间,在相变前后电阻率发生3个数量级的突变,同时对红外光展现出良好的调制能力,最高可达17％.氧压太高将降低薄膜沉积速率而不利于薄膜生长.

关键词：RuVO2合金薄膜、金属-绝缘体相变、脉冲激光沉积法、智能窗涂层

所属期刊栏目：42

分类号：O484.1;TB383(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金;湖北省自然科学基金

在线出版日期：2020-06-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：247-252,258