10.3969/j.issn.1000-2375.2018.02.009
沉积在Si衬底上Co2MnSi薄膜的结构和磁性能分析
将不同厚度的Co2MnSi (CMS)薄膜沉积在Si衬底上,并在不同的退火温度下退火,以探究其微观结构以及磁性能的变化规律.保持CMS薄膜退火温度为600℃,随着薄膜厚度增加至100 nm,由于B2结构取向增大,其Ms随之相应增大到923 emu/cc;保持CMS薄膜厚度为50 nm,随着退火温度升高到700 ℃,可以观察到B2结构取向减小,而且Hc值异常增加到134 Oe,这可能是由于CMS层与Ta层存在相互扩散的现象所导致.
溅射、哈斯勒合金、磁性能、微观结构
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TB324.1(工程材料学)
国家自然科学基金11274101,11674086
2018-04-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
158-161,171