沉积在Si衬底上Co2MnSi薄膜的结构和磁性能分析

摘要：

将不同厚度的Co2MnSi (CMS)薄膜沉积在Si衬底上,并在不同的退火温度下退火,以探究其微观结构以及磁性能的变化规律.保持CMS薄膜退火温度为600℃,随着薄膜厚度增加至100 nm,由于B2结构取向增大,其Ms随之相应增大到923 emu/cc;保持CMS薄膜厚度为50 nm,随着退火温度升高到700 ℃,可以观察到B2结构取向减小,而且Hc值异常增加到134 Oe,这可能是由于CMS层与Ta层存在相互扩散的现象所导致.

关键词：溅射、哈斯勒合金、磁性能、微观结构

所属期刊栏目：40

分类号：TB324.1(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金11274101,11674086

在线出版日期：2018-04-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：158-161,171