SnO薄膜在r面蓝宝石衬底上的外延生长及其性能研究

摘要：

以SnO陶瓷为靶材,采用脉冲激光沉积法(PLD),在厚度为330 nm的r面蓝宝石衬底上制备厚度约为270 nm的单相SnO外延薄膜,并通过改变衬底温度,系统地研究生长温度对薄膜结构及光学性质的影响.X线衍射(XRD)测试表明,在衬底温度小于或等于575℃时,成功制备出单相的SnO外延薄膜.薄膜与衬底蓝宝石的外延关系为:SnO(001)//Al2O3 (1-102),SnO[110]∥Al2O3[-12-10].而当温度大于575℃时,由于歧化反应:(1+x)SnO→xSn+ SnO1.,得到的SnO薄膜中存在少量的金属Sn相、Sn3O4及SnO2相.透射光谱显示,样品在可见光区的透过率高达80％.薄膜的光学带隙随温度的增加呈现V字型变化趋势.衬底温度小于或等于575 c℃时,薄膜的光学带隙随温度的升高而减小;当生长温度大于575℃时,由于SnO2的出现导致薄膜的带隙随温度升高而变大.

关键词：SnO薄膜、脉冲激光沉积(PLD)、外延生长、光学带隙

所属期刊栏目：39

分类号：TN304.055(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金51572073、61274010、11574074;湖北省自然科学基金2015CFA038、2015CFB265、2016AAA031

在线出版日期：2017-06-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：227-230