PLD法制备BST薄膜及其介电性能研究

摘要：

采用脉冲激光沉积法制备Ba0.6 Sr0.4 TiO3(BST)薄膜;研究不同氧压下的BST 薄膜的介电性能.结果表明,当沉积温度为680℃时不同氧压下的BST薄膜均择优(210)面取向生长;氧压为0.01Pa时取向因子稍大,为0.6637;当氧压从0.1 Pa变化到0.001 Pa时薄膜的平均粒径增大,介电常数增大.

关键词：脉冲激光沉积、BST薄膜、介电性能、取向因子

所属期刊栏目：29

分类号：TB303(工程材料学)

资助基金：湖北省教育厅科研项目020060007

在线出版日期：2008-05-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：375-377