10.3969/j.issn.1000-2375.2007.02.015
Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜的磁控溅射法制备与介电性能研究
用磁控溅射法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上沉积Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜.研究沉积气压和衬底温度对BST薄膜结构及介电性能的影响.应用XRD和AFM表征薄膜的物相结构及其表面形貌,通过阻抗分析仪测量薄膜的介电性能.结果表明在3.0 Pa沉积气压和600 ℃衬底温度下制备的Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜有较好的微结构和介电性能.
BST薄膜、磁控溅射、介电性能
29
TB43(工业通用技术与设备)
湖北省自然科学基金2001ABA094
2007-07-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
160-163