R.F.溅射Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜及其光学特性研究

摘要：

用R.F.磁控溅射法在石英衬底上沉积Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜,应用XRD与SEM表征了BST薄膜的晶化行为及其表面形貌.在550 ℃衬底温度下沉积的薄膜,其表面光滑、晶粒大小分布均匀.应用双光束分光光度计,在200～900 nm的波长范围测量了薄膜的透射光谱,并根据"包络法"理论计算薄膜的折射指数.结果表明,随着辐射波长从650 nm减小到480 nm,薄膜的折射率从2.04增加到2.15;随着波长进一步降低,折射率急速上升,到420 nm时,折射率升至2.40,显示出典型的电子带间跃迁的色散曲线.由"包络法"和Tauc关系确定BST薄膜的光学能隙约为3.66 eV.

关键词：BST薄膜、射频溅射、光学特性、极值包络法

所属期刊栏目：27

分类号：TN304(半导体技术)

资助基金：湖北省自然科学基金2003ABA06;湖北大学校科研和教改项目030-095117

在线出版日期：2005-10-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：242-245