光折变X射线半导体超快响应芯片空间性能的实验研究
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3788/gzxb20225102.0251215

光折变X射线半导体超快响应芯片空间性能的实验研究

引用
利用高能量纳秒激光轰击Al靶材产生的X射线作为信号源,对光折变X射线半导体响应芯片的空间性能进行实验研究.结果表明,低温生长AlGaAs芯片具备在X射线入射能量120:1的动态范围内进行高空间分辨的大画幅成像能力,最优空间分辨率≥35 lp/mm@MTF=0.1,成像画幅可达6.7 mm×6.7 mm.该研究对于光折变X射线超快成像系统的研制具有参考意义.

光折变效应、X射线成像、超快成像、空间分辨率、动态范围

51

TB872(摄影技术)

国家自然科学基金No.51302316

2022-04-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共7页

151-157

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

光子学报

1004-4213

61-1235/O4

51

2022,51(2)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn