离子束刻蚀辅助飞秒激光加工制备碳化硅微光学元件

摘要：

为了解决飞秒激光加工硬质材料所带来的表面质量差的问题,提出了离子束刻蚀与飞秒激光复合加工技术.利用飞秒激光加工技术在碳化硅表面制备微纳结构图形,然后通过离子束刻蚀技术对碳化硅微纳结构进行刻蚀,以调控结构的线宽和深度,使结构表面粗糙度由约106 nm降低到11.8 nm.研究表明,利用该技术制备的碳化硅菲涅尔波带片展现出良好的聚焦和成像效果.

关键词：超快激光、半导体加工技术、离子束刻蚀、碳化硅、微光学元件

所属期刊栏目：47

分类号：TN249(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家重点研发计划2017YFB1104600;国家自然科学基金.91423102,61590930,61435005;中国博士后科学基金2018M631456

在线出版日期：2019-03-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：45-50