曝光剂量与体布喇格光栅衍射特性的研究

摘要：

采用分振幅双光束干涉法和“二步法”热处理工艺,在光热敏折变微晶玻璃中制备了周期2.1 μm的透射型体布喇格光栅,研究了不同曝光剂量与光栅衍射效率和角度选择性之间的关系.当曝光剂量逐渐增至为0.6 J/m2时,光栅的衍射效率最高达80.02％;随着曝光剂量的继续增加,光栅的衍射效率逐渐下降,并最终保持稳定.当曝光剂量达到1.5 J/cm2及以上时,光栅对测试光的吸收变化小于5％,此时光栅的衍射效率趋于稳定.曝光剂量的变化对光栅角度选择性没有明显的影响.分析结果表明随着曝光剂量增大,光栅中的含银胶团对532 nm测试光的吸收加剧,从而使透过的衍射光强减弱,出现衍射效率降低的现象.

关键词：体布喇格光栅、曝光剂量、吸收、衍射效率、角度选择性

所属期刊栏目：47

分类号：TN244;TN241(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家重大科学仪器设备开发专项基金2016YFF0100902

在线出版日期：2018-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：11-17