高折射率差纳米狭缝波导的电场分析
狭缝波导在集成光波导器件和系统中有极为广泛的应用,分析狭缝波导物理过程的理论方法和理论模型对指导该类器件和系统的设计至关重要.本文通过分析狭缝波导的物理机理和模式特性,提出将狭缝波导五层对称结构中的波导和狭缝区域作为一个整体进行分析的理论方法,并引入导模和辐射模共同作用机制,在此基础上,建立了理论模型描述整个狭缝波导结构的电场分布.将得到的理论结果,分别与RSoft软件仿真结果、其他研究者的理论结果以及实际优化设计结果进行比较研究,验证了本文理论方法和模型的正确性、优越性、完备性和实用性.最后,给出了本文理论模型适用范围的确定方法,以目前常用狭缝波导(基于SOI材料、波导尺寸180 nm×300 nm)为例,适用于狭缝宽度小于96.2 nm情况.本文理论模型作为一种补充,完善了分析光波导性能的耦合模理论体系.
集成光学、狭缝波导、辐射模、亥姆霍兹方程、高折射率差
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O431.1(光学)
国家自然科学基金61172081;浙江省自然科学基金LZ13F010001;国家大学生创新创业训练计划201210337013
2014-01-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共9页
1464-1472
