488nm连续激光晶化本征非晶硅薄膜的喇曼光谱研究

摘要：

利用等离子增强化学气相沉积系统制备了本征非晶硅薄膜,并选用488 nm波长的连续激光进行晶化.采用喇曼测试技术对本征非晶硅薄膜在不同激光功率密度和扫描时间下的晶化状态进行了表征,并用514 nm波长与488 nm波长对样品的晶化效果进行了比较.测试结果显示:激光照射时间60 s,激光功率密度在1.57×105 W/cm2时,能实现非晶硅向多晶硅的转变,在功率密度达到2.7 56×105 W/cm2时,有非晶开始向单晶转变,随着激光功率密度的继续增加,晶化结果仍为单晶;在功率密度为2.362×105 W/cm2下,60 s照射时间晶化效果较好;在功率密度为2.756×105 W/cm2和照射时间为60 s的条件下,用488 nm波长比514 nm波长的激光晶化本征非晶硅薄膜效果较好,并均为单晶态.

关键词：喇曼光谱、单晶硅、激光晶化、多晶硅、本征非晶硅

所属期刊栏目：40

分类号：TG156.99(金属学与热处理)

资助基金：河南大学省部共建自然科学基金SBGJ090513

在线出版日期：2012-02-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1657-1661