基于数字微镜器件亚微米制备技术研究

摘要：

为了实时、便捷的改变光刻图案以用于微纳光子器件制备,使用数字微镜器件构建了一套无掩模亚微米尺度制备系统.基于阿贝成像原理分析了周期结构在相干光照明下的成像过程,并用数值模拟以及空间滤波实验证明了这个过程.使用此实验系统制作出了周期为900 nm的二维结构以及周期为数十微米的带缺陷结构.实验表明,使用数字微镜器件可以方便的制作出亚微米尺度的图案.

关键词：干涉光刻、傅里叶光学、微纳光子器件、阿贝成像原理、数字微镜器件

所属期刊栏目：39

分类号：O438(光学)

资助基金：国家自然科学基金10774193、10934011;国家重点基础研究计划项目2010CB923204

在线出版日期：2010-06-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：600-604