离子束溅射沉积Ir膜真空紫外反射特性研究

摘要：

根据吸收材料基底上单层金属膜数学计算模型,对不同基片上各种厚度的Ir膜真空紫外反射率进行了优化计算.采用离子束溅射沉积技术,在石英、K9玻璃和Si基片上沉积了不同厚度的Ir膜,研究了基片、表面厚度、离子束能量及镀后热处理对Ir膜反射率的影响,在波长120 nm处获得了近30%正入射反射率.

关键词：真空紫外反射膜、真空紫外反射率、Ir膜、离子束溅射

所属期刊栏目：38

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

在线出版日期：2009-06-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1207-1211