磁控溅射参数对NiOx薄膜光学常数的影响

摘要：

采用反应性磁控溅射法制备了NiOx薄膜,并结合椭圆偏振仪、XRD和XPS研究了溅射参量对其光学常量的影响.NiOx薄膜的光学常量随着O2/Ar流量比的增大而减小;热退火后,折射率增大而消光系数下降了50%;溅射功率越大折射率也越大,而工作气压越大折射率反而越小.这些变化分别与薄膜中存在间隙O和Ni空位、NiOx分解以及NiOx薄膜的致密度有关.

关键词：光学常数、NiOx薄膜、溅射参数

所属期刊栏目：38

分类号：O484.4(固体物理学)

资助基金：the Technology Development Program of Shanghai Municipal Science and Technology Commission 06DJ14007

在线出版日期：2009-04-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：302-306