光聚物材料中布喇格偏移的动态分析
对光致聚合全息存储材料光化学反应过程和引起布喇格偏移的因素进行了分析,通过理论推导,得到了曝光时间与布喇格偏移量的关系.实验曲线表明,材料的布喇格偏移先是随着曝光量的增加而增加,最后达到饱和值.实验的结果与理论分析进行比较,两者符合较好,说明对于布喇格偏移随时间变化动态过程的分析比较合理.
布喇格偏移、光致聚合物、缩皱、全息存储
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O438.1(光学)
河南省高校青年骨干教师资助项目;河南大学校科研和教改项目XK02158;上海市重点基础研究项目03JC140730
2007-01-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
1842-1845