激光直写光刻中线条轮廓的分析

摘要：

考虑了光刻胶对光吸收作用,在已有描述胶层内光场分布模型的基础上,较为准确地推导出光刻胶层内不同深度位置的光场分布.使用迭代方法计算得到了胶层内曝光量空间分布曲线,分析了不同曝光量下胶层内的线条轮廓,为直写光刻中曝光量的选择提供了依据.实验结果分析与理论分析的结果一致.

关键词：激光直写光刻、曝光量、线条轮廓

所属期刊栏目：33

分类号：TN247;TN305.7(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家自然科学基金60078006;中国科学院知识创新工程项目

在线出版日期：2004-03-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：136-139