多层纳米硅复合膜的共振光学非线性

摘要：

本文采用简并四波混频技术在室温下研究晶化a-Si:H/a-SiNx:H多层纳米硅复合膜三阶非线性光学性质,首次观察到这种多层膜的相位共轭信号,在共振光波波长λ=589nm处实验所用样品的三阶非线性极化率为χ(3)=1.4×10-6esu,分析表明其非线性光学响应增强的原因是纳米硅的强量子限域作用.

关键词：多层纳米硅复合膜、简并四波混频、共振光学非线性

所属期刊栏目：31

分类号：O437(光学)

资助基金：国家自然科学基金69896260,N0.60178038;国家重点实验室基金

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1340-1343