选通式象增强器的新型导电基底
本文介绍了采用光刻技术制备的一种新型的导电基底,它的面电阻≤10Ω,透过率约为89%.在该基底上研制出的选通式象增强器,可实现选通时间在ns级以上的高速选通,适用于微光、瞬时多通道高速光谱分析系统和高速摄影系统.
导电基底、光刻、选通、象增强器
29
TN1(真空电子技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
861-864
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导电基底、光刻、选通、象增强器
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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