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选通式象增强器的新型导电基底

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本文介绍了采用光刻技术制备的一种新型的导电基底,它的面电阻≤10Ω,透过率约为89%.在该基底上研制出的选通式象增强器,可实现选通时间在ns级以上的高速选通,适用于微光、瞬时多通道高速光谱分析系统和高速摄影系统.

导电基底、光刻、选通、象增强器

29

TN1(真空电子技术)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

861-864

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