HFCVD法制备金刚石薄膜影响因素的研究进展

摘要：

金刚石薄膜由于其独特的性能成为研究热点。本文通过利用热丝气相沉积法( HFCVD)在基片上制备金刚石薄膜，研究对金刚石薄膜产生影响的各个因素，探讨各个影响因素的研究进展。基体表面预处理，可以提高基体的附着力，改善提高膜基结合力。通过改变甲烷和氢气浓度、沉积气压、温度等工艺参数，可影响是否能在基片上形成金刚石晶核，生成金刚石薄膜。通过对以上影响因素的研究进展，探讨制备过程各个最适宜的反应条件。

关键词：热丝化学气相沉积、金刚石薄膜、表面预处理、基片温度、沉积气压

分类号：TQ127.1

资助基金：重庆科技学院2014大学生科技创新训练计划项目资助。

在线出版日期：2016-03-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：20-22