高纯电子气体中金属杂质分析方法概述

摘要：

概述了高纯电子气体中金属杂质的来源及测定高纯气体中金属粒子的前处理方法和检测手段。选定检测手段从最初的单一仪器检测逐渐过渡到仪器间的联合检测。选用合适的检测方法，满足痕量杂质（10－9级）、复杂组分的分析要求。这样能更精准的检测出更多金属种类。不仅提供对半导体生产中沾污的测试手段，而且对高纯气体的生产、包装等具有非常重要的意义。

关键词：高纯气体、金属粒子、检测方法

分类号：O6-1

资助基金：贵州理工学院科学基金项目电子气体主要杂质分析---SiF4中痕量金属杂质的检测合同编号 XJ2K20130813。

在线出版日期：2015-08-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：19-20,56