石墨层间化合物在压强下的稳定性

摘要：

我们探究了一阶氯化铁石墨层间化合物(FeCl3-GICs)在单轴压力下的稳定性.通过分析一阶氯化铁石墨层间化合物在不同压强下X射线图谱的变化,我们发现在单向压强低于528 MPa时,FeCl3-GIC会保持稳定状态.然而当进一步增大压强后,FeCl3-GIC将变得不稳定和脱插,在更大的单轴压强下甚至可以使一阶FeCl3-GIC改变到更高阶的石墨层间化合物,我们认为氯化铁石墨层间化合物在单轴压力下的脱插是在键的断裂和线缺陷的协助下完成的.

关键词：纳米结构、磁性材料、X射线衍射

所属期刊栏目：43

分类号：O469(真空电子学（电子物理学）)

资助基金：中国国家自然科学基金10974259

在线出版日期：2015-08-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：3-4,30