纳米高度标准样品的制备与标定

摘要：

研究以金属Cr为例进行。采用射频磁控溅射法，在Si/SiO2及玻璃基底上溅射制备了不同参数的Cr薄膜，研究了不同溅射功率、沉积气压、靶基距等参数对Cr膜的影响，以满足纳米台阶高度标准样品的制备需要，为标样的化学稳定性提供了保障。

关键词：纳米高度标准样品、Cr薄膜、平整度、磁控溅射

分类号：O782+.9(晶体生长)

在线出版日期：2014-09-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：89-91,121