SiF4气体中（SiF3）2O的净化方法

摘要：

高纯度四氟化硅（ SiF4）是电子工业中的一种重要原料，能用于光导纤维、太阳能电池和水泥硬化剂等的原料。详细介绍了SiF4气体中（ SiF3）2 O的生成原理和（ SiF3）2 O的净化方法，六氟二甲硅醚的纯化方法有活性炭吸附法，与含氟化氢的浓硫酸，氟气，氟化剂等物质发生反应，其中详细介绍了活性炭对四氟化硅气体中的杂质的净化效果。

关键词：四氟化硅、六氟二甲硅醚、纯化

分类号：TQ127.2

资助基金：贵州理工学院科学基金项目NO xjzk20130814。

在线出版日期：2014-09-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：11-12